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Solution

솔루션

Offering

  • 건식 세정 기술로 수분 최소화
  • 질소 Purge 포장 방식으로 수분 최소화 기술
  • 킬레이트로 인한 이온 세정 기술
  • RGA 통한 수분 정량 평가
  • ChemTrace ICP-MS, IC 통한 이온 정량 분석

Benefit

  • Ultra Clean Part’s
  • 오염 수준 감소, 설비 가동 시간 단축
  • 우수한 금속 이온 관리로 공정 조건 변동 억제

Application

  • LAM, TEL, AMAT, ULVAC, SEMES 등

Applicable Technology

기술명 기술 풀네임 기술 내용 소개자료
PBC™ Pulse Beam Clean Pulse Beam 이용한 막질 제거 기술
NPP™ Nitrogen Purge Package 질소 Purge 이용한 포장 기술
TIC™ Tornado Ion Clean 킬레이트를 이용한 금속 양이온 제거 기술
MPS™ Micro Powder Spray Pellet Size CO2 세정 기술
PSC™ Pure Surface Clean Snow Size CO2 세정 기술